Silisida

Dalam peranti CMOS, polisilokon digunakan sebagai get dan juga talian yang menghubungkan di antara get-get. Polisilikon mempunyai keberintangan yang tinggi ( >300 mikro Ohm /cm) dan apabila lebar talian semakin mengecil rintangan menjadi semakin tinggi yang boleh meningkatkan masa lengah RC. Silisida seperti TiSi2 dan TaSi2 digunakan menggantikan polisikon kerana mempunyai keberintangan yang lebih kecil ( <50 mikro Ohm /cm.) Rajah 6 menunjukkan penggunaan silisida pada sentuhan get MOSFET, lapisan penahan TiN digunakan pada sentuhan S dan D untuk mengurangkan kesan penembusan Al dan Si.

Rajah 6

|| Isi Kandungan || Sekalung Penghargaan || Pengenalan || Sistem Aliminium-Silikon ||
|| Teknik Penglogaman || Masalah Penglogaman || Silisida || Rujukan ||